在電子束曝光下使用納米位移臺時，樣品可能會受到電子束的熱影響。為了避免或降低這種影響，可以采取以下措施：
使用低電子束能量： 降低電子束的能量可以減少其在樣品上產(chǎn)生的熱效應(yīng)。選擇適當(dāng)?shù)碾娮邮铀匐妷海蛊浔３衷谙鄬^低的水平，以減少熱損耗。
限制曝光時間： 減少電子束照射的時間，以降低樣品的熱積累。將曝光時間限制在必要的節(jié)點(diǎn)，以獲得所需的成像或分析結(jié)果。
使用脈沖電子束： 如果設(shè)備支持，可以考慮使用脈沖電子束而非連續(xù)電子束。脈沖電子束照射時間短，有助于減少熱傳導(dǎo)到樣品的程度。
散熱： 提供樣品附近的有效散熱系統(tǒng)，以幫助快速冷卻樣品表面。這可以通過空氣或液體冷卻系統(tǒng)來實(shí)現(xiàn)。
使用導(dǎo)熱性好的樣品支持： 選擇具有較好導(dǎo)熱性的樣品支持，以幫助迅速傳遞熱量，防止在樣品上產(chǎn)生過多的熱積累。
考慮樣品固定： 在進(jìn)行電子束曝光之前，可以考慮使用合適的固定劑或支撐結(jié)構(gòu)來確保樣品的穩(wěn)定性。這有助于減小因電子束造成的振動和熱效應(yīng)。
避免高電流密度： 盡量避免使用高電子束的電流密度。選擇適當(dāng)?shù)氖?，以減小對樣品的熱影響。
監(jiān)測溫度： 在實(shí)驗(yàn)過程中監(jiān)測樣品的溫度。使用溫度監(jiān)測設(shè)備，如紅外熱像儀或熱電偶，以實(shí)時監(jiān)測樣品的溫度，確保不超過安全范圍。
以上就是卓聚科技小編分享的納米位移臺在電子束曝光下如何避免樣品的熱影響。更多位移臺產(chǎn)品及價格請咨詢