納米位移臺(tái)按固定步長(zhǎng)走，但和刻度對(duì)不上，通常不是“步長(zhǎng)設(shè)錯(cuò)”，而是實(shí)際位移和指令位移之間存在系統(tǒng)性偏差，常見原因有這些。
常見的是開環(huán)誤差或標(biāo)定不準(zhǔn)?？刂破靼l(fā)出的步長(zhǎng)只是理論值，如果位移臺(tái)沒有閉環(huán)反饋，絲桿傳動(dòng)誤差、壓電遲滯、驅(qū)動(dòng)增益偏差都會(huì)讓實(shí)際位移逐步偏離刻度。走得越多，累計(jì)誤差越明顯。
其次是機(jī)械回差和摩擦影響。如果每一步都是單向還好，一旦涉及正反向，回差會(huì)直接吃掉一部分步長(zhǎng)。在微小步長(zhǎng)下，靜摩擦也會(huì)讓某些步指令“沒走出來”，導(dǎo)致刻度看起來對(duì)不上。
驅(qū)動(dòng)和控制分辨率也是常見原因。設(shè)定的步長(zhǎng)已經(jīng)接近或小于驅(qū)動(dòng)器最小輸出分辨率，控制信號(hào)被量化，實(shí)際位移呈不規(guī)則跳變，刻度自然無法一一對(duì)應(yīng)。
如果是壓電位移臺(tái)，遲滯和蠕變影響很大。相同步長(zhǎng)的電壓變化，在不同位置、不同方向下對(duì)應(yīng)的位移并不一致，尤其在開環(huán)或未做遲滯補(bǔ)償時(shí)，刻度對(duì)不上是典型現(xiàn)象。
還有一個(gè)容易被忽略的問題是刻度本身。無論是光學(xué)標(biāo)尺、軟件顯示刻度，還是外部測(cè)量參考，如果沒有和位移臺(tái)當(dāng)前狀態(tài)重新標(biāo)定，也可能是“刻度準(zhǔn)，臺(tái)不準(zhǔn)”，或者“臺(tái)準(zhǔn)，刻度不準(zhǔn)”。